keywords:"RF magnetron sputtering" - Výsledky hledání - Digitální repozitář

host :: přihlásit Digitální repozitář
		Hledej		Nový záznam		Nápověda		O repozitáři

Hlavní stránka > Výsledky hledání: keywords:"RF magnetron sputtering"

Hledej:

Tipy pro vyhledávaní :: Rozšířené hledání

Hledej ve sbírkách:

Seřadit podle:	Zobrazit výsledky:	Výstupní formát:

	Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků Dostál, Vladimír ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Hégr, Ondřej (vedoucí práce) Tato práce se zabývá depozicí ytrium oxidových vrstev na křemíkový substrát (P- typ) metodou magnetronového i reaktivního magnetronového naprašování. V práci jsou popsány provedené experiment a jejich výsledky, dále se práce zaměřuje na metodiku vyhodnocení nadeponovaných vrstev pomocí spektrofotometrie a FTIR. Dosažené výsledky spolu s budoucím vývojem práce jsou potom konzultovány v závěru. Úplný záznam
	Preparation and basic properties of nanostructured plasma polymers Serov, Anton ; Biederman, Hynek (vedoucí práce) ; Čech, Vladimír (oponent) ; Novák, Stanislav (oponent) Hladké fluorouhlíkové plazmově polymerní vrstvy byly dlouho zvažovány pro výrobu hydrofobních a kluzkých povlaků. Zájem o fluorouhlíkové materiály byl podpořen i jejich vynikajícími samomaznými a dielektrickými vlastnostmi a chemickou inertností. Tato práce je zaměřena na vývoj nových metod pro přípravu fluorouhlíkových plazmově polymerních nanostruktur, které by mohly kombinovat chemické složení a fyzickou strukturu nutnou pro dosažení superhydrofobního charakteru vrstev. Poly(tetrafluorethylen) byl zkoumaným materiálem. RF magnetronové naprašování v plynově agregačním nanočásticovém zdroji bylo přizpůsobené pro přípravu fluorouhlíkových nanostrukturovaných vrstev s chemickým složením podobným konvenčnímu PTFE ale s vysokým stupněm sesíťování a větvení. Byl diskutován teoretický model růstu takových plazmově polymerních nanostruktur. Úplný záznam
	Využití oxidu yttria pro vytváření antireflexních vrstev solárních článků Dostál, Vladimír ; Boušek, Jaroslav (oponent) ; Hégr, Ondřej (vedoucí práce) Tato práce se zabývá depozicí ytrium oxidových vrstev na křemíkový substrát (P- typ) metodou magnetronového i reaktivního magnetronového naprašování. V práci jsou popsány provedené experiment a jejich výsledky, dále se práce zaměřuje na metodiku vyhodnocení nadeponovaných vrstev pomocí spektrofotometrie a FTIR. Dosažené výsledky spolu s budoucím vývojem práce jsou potom konzultovány v závěru. Úplný záznam
	Study of intrinsic stress in CNx films prepared by magnetron sputtering device using electron microscopy Mikmeková, Eliška ; Sobota, Jaroslav ; Caha, O. ; Mikmeková, Šárka Preparation and analysis of amorphous carbon nitride thin films (CNx) deposited by RF magnetron sputtering device on silicon wafers (100) is reported. Úplný záznam
	Amorfní tenké vrstvy Ag-Sb-S připravené radiofrekvenčním magnetronovým naprašováním Gutwirth, J. ; Wágner, T. ; Drašar, Č. ; Beneš, L. ; Vlček, M. ; Hrdlička, M. ; Frumar, M. ; Schwarz, J. ; Tichá, H. ; Peřina, Vratislav RF magnetronovým naprašováním byly připraveny Ag-Sb-S tenké vrstvy jako potenciální materiál pro optický záznam dat.Složení a homogenita byla zkoumána metodami SEM-EDX, RBS, ERDA, XRD. Optické vlastnosti pomocí UV-vid. spektroskopie a elipsometrie pod proměnlivými úhly. Možnosti krystalizace byly sledovány z teplotní závislosti. Úplný záznam

Chcete být upozorněni, pokud se objeví nové záznamy odpovídající tomuto dotazu?
Přihlásit se k odběru RSS.

Digitální repozitář :: :: :: ::
Powered by v1.1.2
Spravuje

Tato stránka je dostupná také v následujících jazycích:
Česky English